بررسی روش های افزایش ولتاژ شکست ترانزیستورهای ماسفت در تکنولوژی سیلیسیم بر روی عایق
thesis
- وزارت علوم، تحقیقات و فناوری - دانشگاه سمنان
- author حمید امینی مقدم
- adviser عباس دیدبان
- Number of pages: First 15 pages
- publication year 1389
abstract
کاهش ولتاژ شکست یکی از مهمترین اشکالات افزارهایی است که در تکنولوژی soi ساخته می شوند. روش های متعددی برای افزایش ولتاژ شکست افزاره های soi پیشنهاد شده است. کاهش میدان سطحی، فوق پیوند و ایجاد پیک های اضافی از کاربردی ترین روش های افزایش ولتاژ شکست می باشند. برای افزایش ولتاژ شکست ترانزیستورهای ماسفت، یک ساختار جدید با دو پنجره در اکسید مدفون شده پیشنهاد شده است. در این ساختار از روش ایجاد پیک های اضافی و کاهش میدان سطحی برای افزایش ولتاژ شکست استفاده شده است. یکی از مهمترین پارامترها برای تعیین ولتاژ شکست افزاره های soi جنس ماده عایق می باشد. شبیه سازی های انجام شده نشان می دهد هر چه ضریب دی الکتریک عایق مدفون شده بیشتر باشد ولتاژ شکست کاهش بیشتری پیدا می نماید. تغییر مکانیزم شکست، روش پیشنهادی برای افزایش ولتاژ شکست در ترانزیستورهای مسفت می باشد. در این روش با استفاده از یک لایه اکسید مدفون شده، شکست گیت به شکست کانال تبدیل شده است.
similar resources
بهبود عملکرد ترانزیستورهای سیلیسیم روی عایق در کاربردهای ولتاژ پایین
امروزه با پیشرفت چشمگیر تکنولوژی، کوچک¬سازی افزاره¬ها به عنوان یکی از نیاز¬های اساسی برای مدارات آنالوگ و دیجیتال مطرح است. اما با کوچک¬سازی افزاره¬ها، مشکلات بحرانی در عملکرد الکتریکی و حرارتی افزاره¬ها بروز می¬نماید که برای حل آن نیاز به ارائه راهکارها و ساختارهای نوین است. این رساله روش¬های موثری برای بهبود اثرات کانال کوتاه، بهبود اثرات بدنه شناور و بهبود اثر خودگرما ارائه می¬کند. برای کاهش...
بهبود مشخصات ترانزیستورهای mesfet در تکنولوژی سیلیسیم روی عایق
این پایان نامه به بررسی و آنالیز مشخصات ترانزیستورهای اثر میدان فلز نیمه هادی و استفاده از تکنولوژی سیلیسیوم روی عایق در آن می پردازد و در این راستا چندین ساختار نوین برای آنها ارایه می شود. با توجه به اهمیت ترانزیستورهای قدرت و کاربرد گسترده آن ها در علوم مختلف در ساختارهای ارائه شده سعی بر این است که تا حد ممکن مشخصات توانی و فرکانسی را بطور همزمان افزایش دهیم.
ارائه ساختار نوین ترانزیستور اثر میدان سیلیسیم روی عایق دو گیتی با پنجره اکسید در درین گسترده شده بهمنظور کاربرد در تکنولوژی نانو
ترانزیستورهای اثر میدان فلز-اکسید-نیمههادی (MOSFET (ماسفت)) با تکنولوژی سیلیسیم روی عایق (SOI) بهطور گسترده در مدارات مجتمع به کار میروند. بنابراین، دستیابی به ترانزیستورهای ماسفت سیلیسیم روی عایق در ابعاد بسیار کوچک نیازی مهم برای توسعه صنعت الکترونیک به حساب میآید. در این مقاله یک ترانزیستور ماسفت سیلیسیم روی عایق دو گیتی جدید در مقیاس نانو پیشنهاد میگردد که در آن یک پنجره از اکسید سیلی...
full textبررسی اثر مقاومت بدنه بر ولتاژ شکست ترانزیستورهای ماسفت نفوذی افقی سیلیکون روی عایق با شبیه سازی و ارزیابی نتایج عملی
در این پایان نامه به بررسی مفصل تأثیر مقاومت بدنه بر مکانیسم شکست و ولتاژ شکست حالت روشن ترانزیستورهای ماسفت نفوذی افقی سیلیکون روی عایق پرداخته شده است. همچنین در این پایان نامه به بررسی و مقایسه ی فرآیند شکست ترانزیستور ماسفت نفوذی افقی با اتصال بدنه ی معمولی و اتصال بدنه ی لوزی شکل، با بررسی نتایج عملی موجود و انجام شبیه سازی، پرداخته شده است.
بهبود اثرات کانال کوتاه ترانزیستورهای سیلیسیم روی عایق
مدارات مجتمع cmos به منظور دستیابی به سرعت بالا و تراکم فشرده سازی، کوچک شدن افزاره ها را می طلبند، لذا با کوچک شدن طول گیت اثرات کانال کوتاه بسیار مهم خواهند شد. به دلیل تغییر طول گیت خواص قطعه نیز تغییر می کند. در این پایان نامه، اثرات کانال کوتاه ترانزیستورهای سیلیسیم روی عایق و روش های کاهش آنها و نیز ساختارهای ارائه شده بدین منظور مورد مطالعه قرار گرفته اند؛ در نهایت با استفاده از شبیه ساز...
15 صفحه اولارائه ساختاری جدید از ترانزیستورهای اثرمیدان در مقیاس نانو بهمنظور بالابردن قابلیت اطمینان
ترانزیستورهای ماسفت با تکنولوژی سیلیسیم روی عایق کاربرد وسیعی در صنعت الکترونیک دارند. اما وجود لایه عایق در این ساختارها باعث مشکلاتی مانند اثر بدنه شناور و اثر خودگرمایی میگردند. بهمنظور بالابردن عملکرد الکتریکی، در این مقاله یک ترانزیستور ماسفت سیلیسیم روی عایق در مقیاس نانو ارائه میگردد. ساختار پیشنهادی با نام QSZ-MOSFET ارائه میگردد که در آن چهار ناحیه سیلیسیمی در کانال و در اکسید مدفو...
full textMy Resources
document type: thesis
وزارت علوم، تحقیقات و فناوری - دانشگاه سمنان
Keywords
Hosted on Doprax cloud platform doprax.com
copyright © 2015-2023